●
概 要 |
Microsanj社の
開発した熱画像解析装置、Nanothermシリーズは、これまでのIRによるサーモグラフィー装置とは
全く異なった温度測定技術を用いたシステムです。測定物のIR放射を測定するのではなく、
測定物に非常に短時間の光を照射し、その反射光を計測することにより温度分布を測定するため、
測定物に全く影響を与えること無く、IRでは難しかった広い温度範囲を非接触にて測定することが
可能となりました。測定は金属を含むあらゆるものが可能で、測定物を熱したり、表面に特別な処理を
行う必要が有りません。また、薄いシリコン基板は光を透過することから、flip-chip等の、シリコン基板上の
半導体の熱画像を裏面から観測することが可能です。また、Nanothermシステムの最大の特徴として、
オプションにてバイアス電源と信号源を追加することにより、熱画像の過渡特性を、最速では0.8nsec間隔で
測定することができます。Nanothermシステムにより、温度上昇、熱集中の状況をリアルタイムに観察することで、
半導体そのものや半導体回路の最適な熱設計を行うこと、また故障解析、不良解析を行うことが可能です。
測定物の大きさは最小300nm、温度分解能は最小0.2℃、測定温度範囲-265〜500℃に対応します。
|
●
特徴と適用例
|
[特 徴]
- IRによらない可視光による測定/非接触、非侵襲
- 過渡特性解析/最小0.8nsec
- 対象を選ばず、加熱や表面処理の必要無し
- 温度測定範囲/-265〜500℃
- 温度分解能/最小0.2℃
- 空間分解能/最小0.3um
- シリコン基板上のデバイスの裏面温度測定
- 使いやすいソフトウェア
|
|
[適用例]
- 表面温度測定(非侵襲)/電子・光電子デバイス
- 熱設計の最適化/半導体等
- マイクロエレクトロニクス部品の解析および
品質管理
- 熱的欠陥検査、不良解析
- 製造ラインでの検査
|
●
測定例
|